单晶硅专用纯水(反渗透去离子)水处理设备
更新时间：2010-01-01 00:00:00
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型号:HY-500
操作压力:0.4---0.9（Mpa）
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详细介绍
用于单晶硅元件的清洗,提高产品质量,本设备出水水质稳定,操作简单.是企事单位的.
本产品的加工定制是是，型号是HY-500，操作压力是0.4---0.9（Mpa），水电阻率是5-10M，电压是220/380（V），功率是3000（w），脱盐率是98（%），单机出力是0.25---2（/h），品牌是HY-SI
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